Apabila permukaan wayar titanium perubatan terdedah kepada atmosfera atau larutan akueus, filem oksida baharu secara automatik akan terbentuk serta-merta. Sebagai contoh, ketebalan filem oksida atmosfera pada suhu bilik ialah 1.2~1.6nm, dan ia akan menebal dengan masa, dan secara semula jadi akan menebal hingga 70 hari selepas 70 hari. 5nm, meningkat secara beransur-ansur kepada 8~9nm selepas 545 hari.
dawai mig aloi titanium
Filem oksida titanium (termasuk filem pengoksidaan haba atau filem pengoksidaan anodik) biasanya bukan satu struktur, dan komposisi dan struktur oksidanya berubah mengikut keadaan pembentukan. Dalam keadaan biasa, antara muka antara filem oksida dan persekitaran mungkin TiO2, tetapi antara muka antara filem oksida dan logam mungkin dikuasai oleh TiO. Dalam erti kata lain, dalam keadaan biasa, permukaan rod titanium yang kami hasilkan ialah TiO2, dan antara muka antara logam dan filem oksida ialah TiO. Sudah tentu, ini termasuk wayar titanium, plat titanium, dan penempaan titanium.
dawai mig aloi ti tulen
Permukaan rod aloi titanium lebih rumit. Walau bagaimanapun, sama ada rod titanium tulen, rod aloi titanium, atau dawai aloi titanium, terdapat lapisan peralihan keadaan valens yang berbeza di tengah, dan juga oksida bukan stoikiometrik. Ini bermakna filem oksida bahan titanium mempunyai struktur berbilang lapisan. Bagi proses pembentukan filem oksida ini, ia tidak boleh difahami dengan mudah sebagai tindak balas langsung antara titanium dan oksigen (atau oksigen di udara). Ramai penyelidik telah mencadangkan pelbagai mekanisme. Pekerja di bekas Kesatuan Soviet percaya bahawa hidrida pertama kali dihasilkan, dan kemudian filem oksida pasif terbentuk pada hidrida.
