Kaedah Pengurangan Silika: Ini adalah kaedah penyediaan biasa. Silika dan ejen pengurangan karbon dikurangkan dalam relau suhu tinggi untuk menghasilkan silikon logam.
Silikon logam yang dihasilkan disejukkan, dihancurkan dan disaring untuk mendapatkan serbuk silikon logam saiz zarah yang berlainan.
Kaedah pemendapan wap: Melalui teknologi pemendapan wap kimia (CVD), gas yang mengandungi silikon (seperti silane) diuraikan pada suhu tinggi dan didepositkan pada substrat untuk membentuk serbuk silikon logam. Serbuk silikon logam yang disediakan oleh kaedah ini mempunyai saiz zarah kesucian dan seragam yang tinggi, yang sesuai untuk aplikasi elektronik ketepatan tinggi.
Kaedah plasma: Menggunakan suhu tinggi dan ciri tenaga tinggi plasma, bahan sumber silikon (seperti silane) diuraikan untuk menghasilkan serbuk silikon logam. Theserbuk silikon logamDisediakan oleh kaedah ini mempunyai kesucian yang tinggi dan aktiviti yang tinggi, yang sesuai untuk permohonan.
Paparan gambar sampel produk serbuk silikon logam
