Jan 24, 2024 Tinggalkan pesanan

Klasifikasi Sasaran Sputtering

Sasaran Sputtering Tungsten
 

Klasifikasi sasaran sputtering:

Sasaran sputtering boleh dibahagikan kepada sasaran panjang, sasaran segi empat sama, sasaran bulat dan sasaran berbentuk khas mengikut bentuknya.

Mengikut komposisi, ia boleh dibahagikan kepada sasaran logam, sasaran aloi, dan sasaran kompaun seramik.

 

 

High Purity Titanium Target

W Sasaran Sputtering

 

Mengikut bidang aplikasi, mereka dibahagikan kepada sasaran mikroelektronik, sasaran rakaman magnetik, sasaran cakera optik, sasaran logam berharga, sasaran perintang filem nipis, sasaran filem konduktif, sasaran diubah suai permukaan, sasaran lapisan topeng, sasaran lapisan hiasan, bahan sasaran Elektrod, bahan sasaran yang dibungkus, dan bahan sasaran lain.

 

 

Ti target

Tungsten Titanium Sputtering Sasaran
 

Mengikut kegunaan yang berbeza, mereka dibahagikan kepada sasaran seramik berkaitan semikonduktor, sasaran seramik dielektrik merekodkan, sasaran seramik paparan, sasaran seramik superkonduktor dan sasaran seramik rintangan magnet gergasi, dsb.

 

 

Hantar pertanyaan

Rumah

Telefon

E-mel

Siasatan